Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes [Elektronische Ressource] / Christoph Kremin. Martin Hoffmann. Peter Schaaf. Uwe Schnakenberg

hFTUabricaertionhandbn:de:gbApplicaDr.tionDr.-Ing.ofeterSelf-maskedbSiliconamNanostrtucturesStefaninhDeepTURearer.ctiveTUIoneEtchingAacPrAusspracocessesSeptemDisserVtenderanat.tionizur1.Erlangung(Betreuer)desMartinak2.ademiProf.schabil.hencGrades3.DoktoringenieurDr.-Ing.(Dr.-Ing.)hnakvRorngelegtheamheder30.Fbakult?t2010f?rorsiMasczhinenProf.baurer.derhabil.TSecnzinger,hniscIlmenauhenGutacUnivterersit?tProf.Ilmenauhabil.vHomann,onIlmenauHerrnGutacDipl.-Ing.terChristophDr.Kreminnat.gebPorenSamhaaf,10.10.1978IlmenauinGutacErlangenterEinreicUwhScungenamerg,9.WTHAprilhe2010urn:n?env:ilm1-2010000371tlich?fer,DanksagungwHiermithm?eiternc?hrendhundteteicbhenmicchzurbeneihalfen,allenFPeinemersonenZeitbhedankdanken,eidieedankmicimhcbhnologieteameiFderheErstellungausforderungendiesereiArbundeitbun-haftlicterst?tzten.alsDabmeineneiDon-m?hcnhethteertrugicterst?tzte.heimicthundzun?cRathstherzlicbheiomeinemhen.BetreuerteHerrnundProf.durcMartinnHomanntecbeiterhinedankhen,undwhanis-elcMitarbhedankerstetsmirundtr?gtiedieM?glicunhkbleibeitMitterer,gab,AdieDr.ErforsctehHilfe,unghdesen.