Contribution à l'étude de procédés de réalisation de structures métal PZT métal sur silicium pour

Conclusion générale Conclusion générale Le but de ce travail de thèse a été l'optimisation du procédé d'élaboration du multicouche Métal/PZT/Métal pour les applications microsystèmes. Les dépôts ont été réalisés sur substrats silicium par les techniques de pulvérisation cathodique et de recuit rapide. Cette optimisation a consisté à définir une suite d'étapes technologiques permettant la réalisation de structures Métal/PZT/Métal pour des microsystèmes piézoélectriques. Un soin particulier a été apporté à l'uniformité des propriétés piézoélectriques et ferroélectriques tout en gardant une orientation préférentielle [111] de la phase pérovskite. Nous avons surtout cherché à éliminer les courts-circuits dans le film de PZT. Le travail de recherche s'est déroulé autour de deux grands axes. Le premier axe concernait les interactions entre les différentes couches métalliques lors des recuits rapides avec en particulier l'étude des phénomènes de diffusion du Ti. Le second axe consistait à améliorer la cristallisation du PZT dans la phase pérovskite orientée [111]. Notre recherche a été guidée par une étude bibliographique portant sur les phénomènes de nucléation du PZT par des films de Ti. En effet la littérature nous montre qu'une fine couche de Ti ou d'un composé riche en Ti (PbTiO ) à l'interface PZT/Pt provoque une diminution de la température 3de nucléation et une orientation préférentielle [111] de la phase pérovskite. L'emploi de cette ...