Microstructural effects on stress in thin films [Elektronische Ressource] / vorgelegt von Markus Albin Wohlschlögel

Max-Planck-Institut für Metallforschung Stuttgart Microstructural effects on stress in thin films Markus Albin Wohlschlögel Dissertation an der Universität Stuttgart Bericht Nr. 218 September 2008 Max-Planck-Institut für Metallforschung Stuttgart Microstructural effects on stress in thin films Markus Albin Wohlschlögel Dissertation an der Universität Stuttgart Bericht Nr. 218 September 2008 Microstructural effects on stress in thin films Von der Fakultät Chemie der Universität Stuttgart zur Erlangung der Würde eines Doktors der Naturwissenschaften (Dr. rer. nat.) genehmigte Abhandlung vorgelegt von Markus Albin Wohlschlögel aus Aschaffenburg Hauptberichter: Prof. Dr. Ir. E. J. Mittemeijer Mitberichter: Prof. Dr. F. Aldinger Prüfungsvorsitzender: Prof. Dr. E. Roduner Tag der Einreichung: 23.06.2008 Tag der mündlichen Prüfung: 16.09.2008 MAX-PLANCK-INSTITUT FÜR METALLFORSCHUNG STUTTGART INSTITUT FÜR METALLKUNDE DER UNIVERSITÄT STUTTGART Stuttgart, 2008 Contents 1. General introduction ............................................................................9 1.1. Global view and historical background............................................9 1.1.1.