Influence of the plasma chemistry and energetics of an Al cathodic arc discharge on the composition and structure of Alumina thin films [Elektronische Ressource] / Adil Atiser

"Influence of the plasma chemistry and energetics of an Al cathodic arc discharge on the composition and structure of Alumina thin films" Von der Fakultät für Georessourcen und Materialtechnik der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachenzur Erlangung des akademischen Grades einesDoktors der Ingenieurwissenschaftengenehmigte Dissertationvorgelegt von M.Sc. Adil Atiser aus AnkaraBerichter: Univ.-Prof. Jochen M. Schneider, Ph.D. Univ.-Prof. Dr.rer.nat. Joachim Mayer Tag der mündlichen Prüfung: 25. März 2010Diese Dissertation ist auf den Internetseiten der Hochschulbibliothek online verfügbar. Materials Chemistry DissertationNo.: 10 (2011)Adil AtiserInfluence of the plasma chemistry and energetics ofan Al cathodic arc discharge on the composition andstructure of Alumina thin filmsShaker VerlagAachen 2011Bibliographic information published by the Deutsche NationalbibliothekThe Deutsche Nationalbibliothek lists this publication in the DeutscheNationalbibliografie; detailed bibliographic data are available in the Internet athttp://dnb.d-nb.de.Zugl.: D 82 (Diss. RWTH Aachen University, 2010)Copyright Shaker Verlag 2011All rights reserved. No part of this publication may be reproduced, stored in aretrieval system, or transmitted, in any form or by any means, electronic,mechanical, photocopying, recording or otherwise, without the prior permissionof the publishers.Printed in Germany.