Characterization of deep UV photoresist properties by infrared near-field scanning optical microscopy and related methods [Elektronische Ressource] / vorgelegt von Jan Preußer

Characterization of deep UV photoresist propertiesby infrared near- eld scanning optical microscopyand related methodsD i s s e r t a t i o nzur Erlangung des Grades eines Doktorsder Naturwissenschaftenvorgelegt vonJan Preu eraus Otterndorfgenehmigt von derMathematisch-Naturwissenschaftlichen Fakult atder Technischen Universit at ClausthalTag der mundlic hen Prufung7. Juli 2003Vorsitzender der Prufungsk ommission..........................Prof. Dr. D. MayerHauptberichterstatter ........................................ Prof. Dr. W. SchadeBerichterstatter .................................................. Prof. Dr. D. KipDie vorliegende Arbeit wurde im Zeitraum vom November 1998 bis Juni 2003 am Institutfur Physik und Physikalische Technologien der Technischen Universit at Clausthal sowieam JILA, University of Colorado in Boulder, USA angefertigt.Contents1 Introduction 12 Fundamentals of lithography 52.1 Introduction to optical lithography in semiconductor device manufacturing 52.2 Chemically ampli ed photoresists . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 72.2.1 Nonlinear chemistry in latent image formation . . . . . . . . . . . . 72.2.2 Poly(t-butoxyoxycarbonylstyrene) (PTBOCST) . . . . . . . . . . . . 72.2.3 Poly(t-butylmethacrylate) (PTBMA) . . . . . . . . . . . . . . . . . . 102.3 Di usion in polymers . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 123 Image formation in optical microscopy 153.