Atomistic effects in reactive direct current sputter deposition [Elektronische Ressource] / vorgelegt von Oliver Kappertz

Atomistic effects in reactive directcurrent sputter depositionVon der Fakult at fur?Mathematik, Informatik und Naturwissenschaftender Rheinisch-Westf alischen Technischen Hochschule Aachenzur Erlangung des akademischen Grades einesDoktors der Naturwissenschaftengenehmigte Dissertationvorgelegt vonDiplom-PhysikerOliver Kappertzaus Julic? hBerichter: Universit atsprofessor Dr. Matthias WuttigUniversit Dr. Jean GeurtsTag der mundlic? hen Prufung:? 13 Oktober 2003Diese Dissertation ist auf den Internetseiten derHochschulbibliothek online verfugbar.?2Contents1 Introduction 52 Thin film preparation 72.1 Principle of sputter deposition . . . . . . . . . . . . . . . . . . 72.2 Experimental setup . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 92.2.1 Modifications of the deposition system . . . . . . . . . 113 Characterization 133.1 Matter and the electric field . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133.1.1 Basic concept . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133.1.2 Propagation of electromagnetic waves . . . . . . . . . . 153.1.3 The dielectric function †(!) . . . . . . . . . . . . . . . 163.1.4 Interfaces and thin films . . . . . . . . . . . . . . . . . 173.2 Experimental setup . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183.2.1 Infrared spectroscopy . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183.2.2 Vis/UV Spy and Ellipsometry . . . . . . . . . 213.2.3 Instrumentation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 223.2.4 X-ray characterization . .